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公司地址: | 广东省东莞市长安镇太安路1438号1号楼301室 |
发布时间:2020-02-25 06:59:46
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,派瑞林涂层公司,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4、真空度
5、镀膜时间,厚度大小。
组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性:
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
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