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发布时间：2020-02-20 08:49:52
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，纳米真空镀膜，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，纳米镀膜，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
耐摩擦磨损
一定程度的耐摩擦磨损及具有防腐蚀耐酸硷功能。
适用於工业环境有化学气体条件下的电子产品按键，真空纳米镀膜，防止印刷标示被磨损以及硅橡胶遭化学物质***，导致硅橡胶变形影响功能。
涂层致密光滑
硅橡胶经 Parylene 涂敷後，接触或密合於玻璃或镜面电镀层时不会留下印记及伤害物件表面。
适用於工业设备部件硅橡胶吸嘴、吸盘 ....等以及晶圆制程的载具。
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